RO 막 청소 중에 제거 된 일반적인 오염 물질은 무엇입니까?

역삼 투 (RO) 막은 국내 및 산업 환경에서 광범위하게 사용되는 물 정제 시스템의 중요한 구성 요소입니다. 시간이 지남에 따라 이러한 막은 다양한 오염 물질로 오염되어 효율성과 수명을 줄일 수 있습니다. 주요 RO 막 청소 공급 업체로서, 우리는 이러한 막을 최적의 상태로 유지하는 것의 중요성을 이해합니다. 이 블로그에서는 RO 막 청소 중에 제거 된 일반적인 오염 물질과 멤브레인 성능에 미치는 영향을 탐구합니다.

1. 무기 오염 물질

1.1 스케일링 광물

RO 막에서 가장 널리 퍼진 무기 오염 물질 중 하나는 미네랄 스케일링입니다. 탄산 칼슘, 황산 칼슘 및 실리카는 일반적인 스케일링 제 중 하나입니다. 이 미네랄은 농도가 용해도 한계를 초과 할 때 물에서 침전되어 막 표면에 단단한 침전물을 형성합니다.

탄산 칼슘 스케일링은 종종 알칼리성과 경도가 높은 물에서 발생합니다. 공급 물의 pH가 상승하면, 탄산 칼슘의 용해도가 감소하여 침전이 발생합니다. 스케일 층이 물 흐름에 대한 물리적 장벽으로 작용하기 때문에 이것은 막의 투과의 플럭스를 크게 감소시킬 수있다.

황산 칼슘 스케일링은 특히 물의 황산 농도가 높은 지역에서 또 다른 관심사입니다. 탄산 칼슘과 유사하게, 황산 칼슘은 막상에서 조밀 한 층을 형성하여 효율을 감소시킬 수 있습니다. 실리카 스케일링은 실리카가 막 표면에 침착 한 것과 같은 단단한 유리를 형성하고 단단한 유리를 형성 할 수 있기 때문에 다루기가 더 어려워집니다. 이 퇴적물은 제거하기가 어렵고 즉시 해결되지 않으면 막에 돌이킬 수없는 손상을 일으킬 수 있습니다.

1.2 금속 산화물

산화철, 산화물 및 알루미늄 산화 알루미늄과 같은 금속 산화물도 RO 막을 오염시킬 수 있습니다. 이 산화물은 종종 파이프의 부식 또는 공급수에서 금속 이온의 존재로 인해 공급 물에 존재합니다.

일반적으로 녹으로 알려진 산화철은 막 표면에 축적되어 오염을 유발할 수 있습니다. 또한 다른 오염 물질의 산화를 촉매하여 추가 막 분해를 초래할 수 있습니다. 산화 망간은 막에 검은 색 또는 갈색 침전물을 형성하여 성능을 줄일 수 있습니다. 산화 알루미늄은 수처리 과정에 사용되는 응고제로부터 물에 도입 될 수있다. 이들 금속 산화물은 막 기공을 막아 물 플럭스를 감소시키고 막을 가로 질러 압력 강하를 증가시킬 수있다.

2. 유기 오염 물질

2.1 자연 유기물 (nom)

자연 유기물은 지표수와 지하수에서 발견되는 유기 화합물의 복잡한 혼합물입니다. 여기에는 Humic 및 Fulvic 산, 단백질, 탄수화물 및 지질이 포함됩니다. NOM은 막 표면에 흡착하고 층과 같은 겔을 형성함으로써 RO 막의 오염을 유발할 수있다.

Humic 및 Fulvic acid는 지표수에서 NOM의 주요 성분입니다. 이 산은 분자량이 높고 막 상에 두꺼운 층을 형성하여 투과성을 감소시킬 수 있습니다. 단백질 및 탄수화물은 또한 막 표면에 부착되어 오염을 유발할 수 있습니다. 지질은 막 상에 유성 층을 형성하여 기공을 차단하고 물 플럭스를 줄일 수 있습니다.

2.2 합성 유기 화합물

살충제, 제약 및 산업 화학 물질과 같은 합성 유기 화합물도 RO 막을 오염시킬 수 있습니다. 이 화합물은 종종 농업 유출, 산업 폐기물 처리 또는 국내 폐수 배출의 결과로 소스 수에 존재합니다.

살충제는 막에 독성이있을 수 있으며 구조에 손상을 줄 수 있습니다. 항생제 및 호르몬을 포함한 의약품은 막 표면에 축적되어 성능을 줄일 수 있습니다. 용매 및 염료와 같은 산업 화학 물질은 또한 막을 오염시켜 오염 및 효율을 줄일 수 있습니다.

2.3 미생물

박테리아, 곰팡이 및 조류와 같은 미생물은 RO 막 표면에서 자라서 바이오 필름을 형성 할 수 있습니다. 이 바이오 필름은 미생물, 세포 외 중합체 물질 (EPS) 및 기타 유기 및 무기 물질의 복잡한 매트릭스입니다.

박테리아는 RO 막 바이오 필름에서 발견되는 가장 흔한 미생물입니다. 그들은 막 표면을 준수하고 EPS를 생성하여 안정적인 바이오 필름을 형성하는 데 도움이됩니다. 이 바이오 필름은 막 기공을 차단하고 물 플럭스를 줄일 수 있기 때문에 상당한 오염을 일으킬 수 있습니다. 곰팡이와 조류는 또한 막 표면, 특히 빛에 노출 된 시스템에서 자랄 수 있습니다. 이 미생물은 막을 손상시킬 수있는 안료 및 기타 대사 산물을 생성 할 수 있습니다.

3. 미립자 오염 물질

3.1 정지 된 고형물

현탁 된 고체는 공급 물에 매달린 작은 입자입니다. 이 입자에는 모래, 미사, 점토 및 기타 잔해가 포함될 수 있습니다. 전 여과에 의해 제대로 제거되지 않으면, 이들 입자는 RO 막 표면에 축적되어 오염을 일으킨다.

모래와 미사 입자는 비교적 크며 필터링되지 않으면 막에 물리적 손상을 일으킬 수 있습니다. 점토 입자는 더 작고 막 표면에 조밀 한 층을 형성하여 투과성을 감소시킬 수 있습니다. 식물 물질 및 유기 입자와 같은 다른 잔해는 또한 막 오염에 기여할 수 있습니다.

3.2 콜로이드 입자

콜로이드 입자는 물에 분산 된 매우 작은 입자입니다. 그들은 표면적이 높고 막 표면에 흡착되어 오염을 일으킨다. 콜로이드 입자는 금속 수산화물, 실리카 콜로이드 및 유기 콜로이드를 포함 할 수 있습니다.

금속 수산화물 콜로이드는 물에서 금속 이온의 가수 분해의 결과로 형성 될 수있다. 실리카 미네랄의 용해로 인해 실리카 콜로이드가 물에 존재할 수 있습니다. 유기 콜로이드는 자연 유기물의 분해로부터 유래 될 수있다. 이들 콜로이드 입자는 종래의 여과 방법에 의해 제거하기 어려울 수 있으며 RO 막의 상당한 오염을 유발할 수있다.

4. RO 막 청소 서비스

RO 막 청소 공급 업체로서, 우리는 이러한 일반적인 오염 물질을 제거하기위한 포괄적 인 청소 솔루션을 제공합니다. 우리의 청소 과정은 특정 유형의 파울 링 및 막의 특성에 맞게 조정됩니다.

우리는 화학 청소제와 물리적 세정 방법의 조합을 사용하여 오염 물질의 효과적인 제거를 보장합니다. 우리의 화학 청소제는 막 재료와 호환되도록 신중하게 선택되고 잠재적 손상을 최소화합니다. 무기 스케일링의 경우 산성 또는 알칼리성 세정제를 사용하여 스케일 퇴적물을 녹입니다. 유기 오염의 경우, 우리는 산화제 또는 효소를 사용하여 유기물을 분해합니다.

화학적 세정 외에도 역 세척 및 막 플러싱과 같은 물리적 세정 방법을 사용합니다. 역 세척은 멤브레인을 통해 물의 흐름을 되돌려 느슨한 오염 물질을 제거하는 것을 포함합니다. 막 플러싱은 화학 청소 후 나머지 오염 물질을 제거하는 데 사용됩니다.

우리는 또한 멤브레인 검사 및 분석 서비스를 제공하여 파울 링 정도와 가장 적절한 청소 전략을 결정합니다. 우리의 전문가 팀은 RO 멤브레인 청소에 대한 광범위한 경험을 가지고 있으며 고객의 특정 요구를 충족시키기위한 맞춤형 솔루션을 제공 할 수 있습니다.

5. 우리의 제품 범위

우리는 다양한 응용 분야에 적합한 광범위한 RO 멤브레인을 제공합니다. 우리의국내 RO 막 요소 2812소규모 규모의 국내수 정제 시스템을 위해 설계되었습니다. 소형 디자인으로 고품질의 물 정제를 제공합니다.

그만큼주거용 RO 막 3012주거용 응용 프로그램에 대한 또 다른 인기있는 선택입니다. 더 높은 수자원 생산 능력을 제공하며 더 큰 가구에 적합합니다.

우리의국내 역삼 투 막 2012국내수 정제를위한 비용 - 효과적인 옵션입니다. 설치 및 유지 관리가 쉽기 때문에 주택 소유자에게 인기있는 선택이됩니다.

6. 구매 및 상담을 위해 당사에 문의하십시오

RO 멤브레인 오염에 문제가 발생하거나 RO 막 또는 청소 서비스를 구매하는 데 관심이있는 경우 저희에게 연락하는 것이 좋습니다. 당사의 전문가 팀은 귀하가 가질 수있는 모든 질문을 도와 줄 준비가되어 있으며 귀하의 물 정제 요구를위한 최상의 솔루션을 제공 할 준비가되었습니다.

참조

1. Cheryan, M. Ultrafiltration 및 Microfiltration Handbook. Technomic Publishing Co., 1998.
2. 베이커, RW 막 기술 및 응용. Wiley, 2004.
3. Flemming, H. -C., & Wingender, J. (Eds.). 바이오 필름 : 형성, 소독 및 대조군. IWA Publishing, 2001.